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PVD装置 PCM アネルバ(ANELVA) I-1080-PVD
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【詳細（年式、仕様他）】-----------------------------------------------------
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ＣＶＤ
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大気開放型CVD装置 時田シーブィディシステムズ
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【詳細（年式、仕様他）】-----------------------------------------------------
真空排気不要の大気開放型CVD装置 |
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ＣＶＤ
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CVD反応装置 神港精機 委託販売
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【詳細（年式、仕様他）】-----------------------------------------------------
ワーク：ガラス フィルム
・平行平板型プラズマＣＶＤ装置
・ロードロック室と成膜室から構成の量産用装置
・高周波励起によるプラズマ中で各種反応ガスを分解→活性化して化学反応を起こさせることによって成膜
【特徴】
１５μmのＳiＯ2膜を形成：適正な電極間距離、反応ガスの均一供給、放電電極の適正化と加熱処理によって
電子部品の多量生産装置として最適
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ＣＶＤ
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